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2017-09-12 00:15 出处:其他 作者:TNT 责任编辑:chenweibin

  【PConline 资讯】随着技术的进步,芯片这东西,体积越小,也代表着性能越好。而讲到芯片,三星 这些年受惠于高通骁龙芯片、AMD Ryzen/Vega/Polaris的成功,三星的代工生意风生水起、日进斗金,二季度收入超越Intel,也使其成为了全球第一大半导体公司。

  作为全球第一大半导体公司,三星制程工艺也走在行业的前列。而就在今天,三星宣布,新加入11nm LPP工艺!这明显是三星对打台积电12nm FinFET推出的的芯片,只不过,不论是三星的11nm,还是台积电的12nm,却都只是两家擅自混乱地给制程命名(三星10nm=Intel 14nm)。

  三星11nm(改良后的14nm LPP马甲)芯片性能提升15%,单位面积功耗降低了10%。三星表示,10nm用于旗舰手机,11nm用于中高端,形成差异化,预计2018年上半年在市场投放。

  与此同时,三星也成为了市场上最先确认7nm的企业,其7nm LPP定于2018下半年量产,采用EUV极紫外光刻技术。EUV虽然困难重重,但ASML已经开始出货定型的光刻机。三星也表示,从2014年开始,基于EUV处理了200000片晶圆,目前在256Mb SRAM(静态随机存储器)良率已经达到了80%。

  关于11nm和7nm更进一步的细节,三星定于9月15日在东京举办的半导体会议上揭示,未来的技术路线图也会更新。

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