正在阅读：原来如此!揭开半导体制冷技术的面纱原来如此!揭开半导体制冷技术的面纱

3．PN结

　　在一块本征半导体的两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程：

       因浓度差

           ↓

     多子的扩散运动®由杂质离子形成空间电荷区

                         ↓

             空间电荷区形成形成内电场

               ↓                   ↓

   内电场促使少子漂移        内电场阻止多子扩散

　　最后，多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。在P型半导体和N型半导体的结合面两侧，留下离子薄层，这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方向由N区指向P区。

　　PN结加正向电压时的导电情况如图所示。

　　外加的正向电压有一部分降落在PN结区，方向与PN结内电场方向相反，削弱了内电场。于是，内电场对多子扩散运动的阻碍减弱，扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流，可忽略漂移电流的影响。而实际上电子在通过电场后势能产生变化，能量转换为各种形势的表现，而热量的吸收与散发都是其表现的一个方面。而半导体制冷片的工作原理实际上就是通过定向电流将热能定向搬运的过程。

总结：

　　通过上述大家应该已经比较清晰的了解了半导体的制冷过程以及原理，实际上也并非很玄乎的东西，毕竟其现象早在19世纪就已经被人发现。但是要将理论用到成品生产供人使用却不是一件简单的事情，其中涉及到材料科学等更为多样化的专业知识。在应用于CPU散热器的设计中，制冷片还要应付更多的问题，譬如温控、除湿等。随着技术的成熟，半导体制冷还是很有前途的，只是目前的应用似乎有点超前了。