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2009-01-08 09:36 出处:PConline原创 作者:Hero Fan 责任编辑:fanjunhui

4 Phenom II新特性:45nm高能效核心

Phenom II的改进
Phenom II的技术改进

  相比Phenom采用较老的65nm制作工艺,Phenom II采用先进的45nm沉浸式光刻技术,能使CPU频率提高也更为容易,同时功耗得到明显改善,相比Phenom 9950,Phenom II在闲置和满载时功耗降低35%以上,因此Phenom II的能耗比非常出色,将成为AMD性能最强的桌面处理器。

  Phenom II还对STARS核心进行了改进(新核心架构又称为K10.5),做了进一步优化,提供更大的缓存容量(L2+L3缓存高达8MB),核心频率超过3.0G,并为支持DDR3内存做好准备,还有一些优化技术,如内存优化技术、平衡智能缓存技术、AMD预取技术等。因此Phenom II提供更高的每时钟周期运行指令数(IPC)。

  小提示:其原理就是在镜头和晶片之间加入一种特殊的液体,使得材料特征更加精确和明显,通过这种方式可以在提高制造能力的同时使生产流程更为高效。

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