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4 Phenom II新特性：45nm高能效核心

Phenom II的技术改进

　　相比Phenom采用较老的65nm制作工艺，Phenom II采用先进的45nm沉浸式光刻技术，能使CPU频率提高也更为容易，同时功耗得到明显改善，相比Phenom 9950，Phenom II在闲置和满载时功耗降低35%以上，因此Phenom II的能耗比非常出色，将成为AMD性能最强的桌面处理器。

　　Phenom II还对STARS核心进行了改进（新核心架构又称为K10.5），做了进一步优化，提供更大的缓存容量（L2+L3缓存高达8MB），核心频率超过3.0G，并为支持DDR3内存做好准备，还有一些优化技术，如内存优化技术、平衡智能缓存技术、AMD预取技术等。因此Phenom II提供更高的每时钟周期运行指令数（IPC）。

　　下面是45nm Stars核心的改进：

1、Phenom II的三级缓存从Phenom的2MB增加到6MB；同时Phenom II三级缓存比Phenom快2个时钟周期。

2、Phenom II提高了内存带宽，达17.1GB/s；CPU总带宽也提高到31.5 GB/s。

3、在某个核心进入关闭状态以降低频率、节省能耗的时候，可以将其对应的一级和二级缓存数据清空并转入共享的三级缓存。

4、基于路径的间接分支预测。

5、增大载入/存储缓冲，增大浮点缓冲，缩短未命中缓冲MAB的生命周期。

6、改进LOCK流水线操作(LOCK是一种指令集前缀)：在同时处理多个LOCKS的时候可以提升处理器性能。

7、FP MOV计算优化：浮点寄存器-寄存器转移指令的改进。

　　小提示：45nm沉浸式光刻技术其原理就是在镜头和晶片之间加入一种特殊的液体，使得材料特征更加精确和明显，通过这种方式可以在提高制造能力的同时使生产流程更为高效。